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光学纳米成像用于大尺寸WS2缺陷分析
材料人测试客服小陈     12天前 微信扫码分享 登录后可收藏  
应用场景:
光学纳米成像技术
关键性能:
展示了6小时的微米级二维材料的光学纳米成像,这是传统纳米级成像周期的12倍
产品介绍:

近日,日本大阪大学Takayuki Umakoshi和Prabhat Verma(共同通讯作者)等人在Science Advances上发表文章,题为“Ultrastable tip-enhanced hyperspectral optical nanoimaging for defect analysis of large-sized WS2 layers”。作者通过基于AFM的TERS展示了6小时的微米级二维材料的光学纳米成像,这是传统纳米级成像周期的12倍。为此,作者开发了超稳定的TERS装置,该装置有一个自制的反馈系统,以补偿所有三个维度中可能的漂移。这项技术的发展克服了长期存在的系统漂移问题,因此成像时间不再受机械漂移的限制。

产品来源:
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