近日，日本大阪大学Takayuki Umakoshi和Prabhat Verma（共同通讯作者）等人在Science Advances上发表文章，题为“Ultrastable tip-enhanced hyperspectral optical nanoimaging for defect analysis of large-sized WS₂ layers”。作者通过基于AFM的TERS展示了6小时的微米级二维材料的光学纳米成像，这是传统纳米级成像周期的12倍。为此，作者开发了超稳定的TERS装置，该装置有一个自制的反馈系统，以补偿所有三个维度中可能的漂移。这项技术的发展克服了长期存在的系统漂移问题，因此成像时间不再受机械漂移的限制。