据国家科学评论公众号报道，湖南大学段辉高教授课题组提出并展示了一种新的抗蚀剂图案化方法“抗蚀剂纳米剪纸”：先在抗蚀剂上曝光出目标结构的轮廓，再把多余的抗蚀剂薄膜选择性地机械剥离。相对于传统电子束光刻过程，该方案具有以下核心优势：可有效减少制造过程中的曝光面积（例如，加工半径为400微米的圆盘结构，相对传统电子束光刻方案该方案的曝光面积可减少5个数量级），极大提高加工效率，降低临近效应影响，实现传统方案难以实现的跨尺度“宏-微-纳”复杂功能性结构的高效制造。一胶两用：只需在正性抗蚀剂PMMA中曝光出目标结构的轮廓，再通过选择性剥离与转印即可实现目标结构的“正胶”和“负胶”图案。研究成果以Resist nanokirigami for multipurpose patterning 为题发表于 National Science Review。