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材料缺陷及其光学性质计算专题
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介绍 目录 留言  

由于近代半导体芯片技术和大规模并行计算技术的发展,使得大尺度材料的计算机模拟成为可能。VASP作为当下最流行的商用软件之一,在材料计算模拟领域具备最广泛的国际认可度。针对当下材料研究中的热点领域,如材料中的微观缺陷,材料中缺陷的迁移,缺陷形成能,缺陷光学性质等,不仅能解释相应的实验,还能分析其物理机理。
基于此,我们特别开设了与此相关的专题培训班,具体课程安排如下:

课程安排

2022年6月12日

 9:00—10:20
1.缺陷的构建及形成能计算方法
教学目标:掌握缺陷的构建方法和形成能计算方法
1、 缺陷的介绍
2、缺陷的构建方法
3、缺陷形成能理论计算方法

10:30—12:00
2.缺陷形成能和浓度计算
教学目标:掌握用VASP计算缺陷形成能和浓度的方法
1、 形成能公式中的参数意义和具体计算方法
2、缺陷形成能计算
3、缺陷浓度计算

12:00—12:30
3.互动在线答疑
解决本次课堂所有内容以及自己研究过程中遇到的问题

4.14:00—15:40
光谱计算
教学目标:掌握吸收光谱、反射光谱和折射率计算
1、线性光学计算理论
2、吸收光谱计算
3、反射光谱计算
4、折射率计算
5、光谱能带分析

5.15:50—17:00
缺陷光学计算
教学目标:掌握缺陷价态转变光谱学和自旋守恒光谱学及算法方法
1、缺陷光学理论介绍
2、缺陷能级介绍
3、缺陷价态转变光学
4、自旋守恒光学计算

6.17:00—17:30
互动在线答疑
解决课堂当天内容以及自己研究过程中遇到的问题

 

讲师介绍:
成国栋,2017年毕业于华东师范学物理与电子科学学院,获得博士学位。随后在南华大学计算机学院工作。目前主要从事固体材料性质计算和正电子湮没理论计算程序开发及应用工作。截止目前为止,共发表SCI论文20余篇,相关工作在Appl. Phys. Lett., Angew. Chem. Int. Ed., Comput. Mater. Sci., J. Mater. Sci., Appl. Surf. Sci.等期刊上。