天津大学巩金龙教授课题组，描述了具有可控表面润湿性的不连续保护层的设计和制造，其中底部有机疏水层用表面亲水性羟基修饰以形成薄气体层，以将电解质与易腐蚀的Si基板隔离，同时抑制形成的大气泡。通过优化疏水层的孔径，将在孔隙中形成离散的薄气体层，以将暴露的Si与腐蚀性溶液隔离，同时允许HER助催化剂Pt接触电解质以保持高光电流。在这种通过旋涂法沉积的有机层的保护下，该光电阴极达到了35 mA/cm²的饱和电流，可稳定工作110 h且性能无劣化，可与真空制备的金属氧化物基保护层沉积技术相媲美。相关论文以题为“Stable solar water splitting with wettable organic-layer-protected silicon photocathodes”发表在Nature Communications上。