清华大学核能与新能源技术研究院新型能源与材料化学团队介绍了一种利用快速硫醇-烯点击化学实现超高效纳米制造的点击光刻策略。这种通过实现超高功能性材料设计而促进的新方法能够在极低的深紫外暴露剂量（例如7.5 mJ cm–2）下对含金属纳米团簇进行高对比度成像，这与传统的光刻胶体系相比所需曝光剂量低10-20倍。同时，使用电子束光刻也在低剂量下获得了45nm的密集图形，揭示了这种方法在高分辨率图形化中的巨大潜力。该研究结果展示了点击光刻的高灵敏度和高分辨率特性，为未来的光刻设计提供了灵感。上述研究成果以Exceptional Light Sensitivity by Thiol–Ene Click Lithography为题发表在Journal of the American Chemical Society上。