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免蚀刻类光刻银纳米线网络图形化技术
材料人客服小谭     2021-12-26 微信扫码分享 登录后可收藏  
应用场景:
柔性电子
关键性能:
工艺简单、免蚀刻、高精度的类光刻技术
产品介绍:

柔性透明电极(TE)的出现极大地推动了光电器件性能和形态的发展与创新。银纳米线(AgNW)凭借着高电导率、全光谱透明和优异的柔韧性等特性成为最有商业化前景的柔性透明电极材料之一, 被广泛应用于显示、能源、传感等领域。在器件应用中,降低 AgNWs 之间的高接触电阻能够显著提高器件性能,构建高精度图案化AgNW电极则能够赋予器件以新的功能和集成化器件结构。通常,人们需要采用多步、冗繁的工艺流程来分别实现AgNW接触电阻降低和AgNW网络的图案化。暨南大学罗云瀚教授、刘贵师博士和中山大学杨柏儒教授合作,通过碘鎓盐(DPIN)表面改性调控原子扩散运动和羟丙基甲基纤维素(HPMC)增强的等离子体焊接,开发了一种工艺简单、免蚀刻、高精度的类光刻技术。在紫外光功率密度低于传统水平1-3个数量级的选择性辐照下,同时实现纳米线等离子体焊接和图案转移,通过低温加热和超声清洗,获得高品质因数、高精度图案化AgNW TE。目前该论文以“Continuous Fabrication of Ti3C2Tx MXene-Based Braided Coaxial Zinc-Ion Hybrid Supercapacitors with Improved Performance”发表在Nano Research期刊上。

产品来源:
doi:10.1007/s12274-021-3796-y.
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