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99%的均匀成核制备了厘米级二硫化钼薄膜
材料人测试客服小陈     2022-05-05 微信扫码分享 登录后可收藏  
应用场景:
过渡金属硫化物
关键性能:
迁移率可达122.6 cm2·V−1·s−1,短沟道FET开态电流可达1.27 mA·μm−1
产品介绍:

南京大学电子科学与工程学院李涛涛、王欣然和东南大学物理学院通过调控原子梯级高度,在蓝宝石基底的c面上,利用外延生长,然后将形成的TMDs区域融合,实现了99%的均匀成核,制备了厘米级二硫化钼薄膜。由此制备的短沟道场效应晶体管(FET)迁移率可达122.6 cm2·V−1·s−1,短沟道FET开态电流可达1.27 mA·μm−1。该成果以“Uniform nucleation and epitaxy of bilayer molybdenum disulfide on sapphire”发表在《nature》。

产品来源:
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