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高性能硅纳米线场效应晶体管器件
材料人客服小谭     2022-01-30 微信扫码分享 登录后可收藏  
应用场景:
柔性电子皮肤
关键性能:
空穴载流子迁移率、电流开关比Ion/Ioff和亚阈值摆幅(SS)分别为~70 cm2 V−1 s−1,>105和134-277 mV/dec
产品介绍:

南京大学余林蔚、徐骏教授团队探索将高品质的一维硅纳米线(SiNWs)阵列可靠转移集成到弹性衬底PDMS之上,实现了超可拉伸的高性能场效应晶体管(FET)器件应用。基于课题组自组创新的(In-plane solid-liquid-solid, IPSLS)生长模式,首先制备了规则有序的超细晶硅纳米线(直径<80 nm)沟道,再将其可靠批量转移到柔性PDMS衬底上。在优化设计的离散硬岛结构保护下,晶硅纳米线FET器件可以承受高达50 %的拉伸应变和超过1000个循环的重复拉伸测试(20 %应变下),其空穴载流子迁移率、电流开关比Ion/Ioff和亚阈值摆幅(SS)分别为~70 cm2 V−1 s−1,>105和134-277 mV/dec。这为探索和实现更先进的可拉伸电子皮肤、超柔性和非平面显示驱动(TFT)逻辑和生物传感/激励应用提供了理想可靠的高性能驱动逻辑器件基础!研究成果以Highly stretchable high-performance silicon nanowire field effect transistors integrated on elastomer substrates为题发表于Advanced Science。

产品来源:
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