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原位转移光固化3D打印工艺
材料人客服小谭     2022-03-22 微信扫码分享 登录后可收藏  
应用场景:
微流控应用、3D打印
关键性能:
该工艺可以高效可靠地打印出通道高度仅为10微米,精度±1微米的微流控器件,并有潜力进一步提升微流道高度的分辨率
产品介绍:

南加州大学的Yong Chen教授和其团队成员Yang Xu博士(一作),及Noah Malmstadt教授研发出一种原位转移光固化3D打印工艺(In-situ Transfer Vat Photopolymerization,IsT-VPP),该工艺可以高效可靠地打印出通道高度仅为10微米,精度±1微米的微流控器件,并有潜力进一步提升微流道高度的分辨率。该工艺的核心思路是在传统的立体光固化打印机基础上增加一个辅助打印平台作为约束平面,将至关重要的通道顶层通过两次曝光分开打印,并原位转印到微流体器件上。通过这种方式极大减少了通道内树脂吸收的光能,使得总吸收能量远低于固化所需的能量阈值,避免了过度固化导致的通道堵塞。通过这种方法,研究者打印了一系列10微米级微流控通道并展示了一系列微流控应用,如微流控阀,微粒筛选器等。相关研究成果以“In-situ transfer vat photopolymerization for transparent microfluidic device fabrication”为题发表在Nature Communications上。


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